單片式清洗設備 位置:網站首頁>>產品中心 >>單片式清洗設備
隨著半導體芯片工藝技術的發展,工藝技術節點進入28納米以及14nm等更先進等級,隨著工藝流程的延長以及越趨復雜,每個晶片在整個制造過程中需要超過200道清洗步驟, 晶圓清洗變得更加復雜、重要以及富有挑戰性; 清洗設備以及工藝也必須推陳出新,使用新的戶物理及化學原理,在滿足使用者的工藝需求條件下,也兼顧降低晶圓清洗成本和兼顧環境保護;


  • 減少材料損傷(material loss); 
  • 孔洞的清洗能力;
  • 防止晶片結構損傷(pattern damage);
  • 金屬、材料及微粒子的交叉污染 ;
  • 晶圓可靠性改善;

單片濕法設備的工藝應用

  • 去膠及去膠后清洗
  • 爐管及長膜前清洗
  • 氧化層/氮化硅蝕刻
  • 銅/鈦金屬蝕刻
  • 聚合物去除
  • 擦片清洗
  • 化學機械研磨后清洗

單片清洗的亮點 

  • 可以提供完整的濕法工藝解決方案,及前瞻的技術規劃。
  • 設備及工藝已經通過國際一線大廠的驗證。
  • 設備平臺及腔體設計種類多,可滿足客戶不同條件。
  • 多層式結構腔體設計,化學品回收率最高可以達到95%以上。
  • 自動清洗功能(腔體、排風口、 化學品噴嘴及手臂),可避免交叉污染及減少微粒子。 
  • 先進的自動工藝控制功能(片/批次),可以改善產品的均勻性。
  • 可靠的視覺辨識功能,能立即偵測設備異常,預防產品異常。
  • IPA 干燥功能,可以減少微粒子及水痕。

ULTRON S2XX/S3XX
設備平臺: ULTRON S-Series
晶圓尺寸: 200mm/300mm, 
秋霞影院国产片 相關技術: 全自動旋轉式濕法清洗 適用制程: 晶體管, 連接體, 圖形化, 先進內存, 封裝

名           稱

描                            述

型號

?   ULTRON  S2XX
?  ULTRON S3XX

晶圓尺寸

?   200mm
?  300mm

上料端口

?   4
?  4

工廠自動化

?   OHT possible
?  OHT possible

腔體

?   8
?  12, 雙層三排

化學品供應

?   多腔體可用
?  多腔體可用

產能

?   Max=295
?   Max=590

機械手臂

?   Index Robot : 1
      晶圓傳送機械手:2
?   Index Robot : 1
     晶圓傳送機械手:2

尺寸

?   2520(W)x 4180(D) x 3800(H)
?   2400(W)x 4720(D) x 2555(H)

秋霞影院国产片在半導體的高純工藝領域耕耘10年,已經累積一大批優質用戶,如和輝、華力、中芯國際、長鑫(睿力)、海力士等一批重點項目。過去幾年客戶強烈希望至純將產品及服務延伸的設備領域;
2015年上海市長以及副市長分別來到秋霞影院国产片參觀考察,并鼓勵至純能繼續在半導體、微電子等領域有更好的科研技術,發揮更大的作用,做出更大的貢獻。至純在此背景以及響應國家半導體、電子行業的國產化政策下;開啟濕法設備的研發項目,開始與關國家重點院校和實驗室積極對接,成立研發團隊及項目;
2016年設立院士工作站,針對用戶在生產和研發過程中提出的特殊需要開展相關的研發工作,相關的研發項目均是針對公司核心業務相關,圍繞高純工藝與濕法清洗設備,目前均在穩步進行中。           
2017年成立全資子公司(至微),負責濕法清洗設備的研發和制造。至純也極吸引包含臺灣、馬來西亞、韓日本等各方高端人才。同時未來也藉由至純的實驗室及工作站,與國家重點院校積極培育性半導體人才;期望2020年能與國際接軌及競爭。