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  • 槽式濕法設備

    槽式濕法設備的工藝應用 去膠及去膠后清洗 爐管及長膜前清洗 氧化層/氮化硅蝕刻 銅/鈦金屬蝕刻 ULTRON B2XX/B3XX 設備平臺: ULTRON B2/3XX 晶圓尺寸: 200mm/300mm, 相關技術: 全自動槽式濕法清洗 適用制程: 晶體管, 連接體, 圖形化, 先進內存, 封裝

  • 單片式濕法設備

    單片式濕法設備的工藝應用 去膠及去膠后清洗 爐管及長膜前清洗 氧化層/氮化硅蝕刻 銅/鈦金屬蝕刻 聚合物去除 擦片清洗 化學機械研磨后清洗 ULTRON S2XX/S3XX 設備平臺: ULTRON S2/3XX 晶圓尺寸: 200mm/300mm, 相關技術: 全自動單片式濕法清洗 適用制程: 晶體管, 連接體, 圖形化, 先進內存, 封裝

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